1.2μmの高解像度を達成、第6世代プレートサイズ対応のFPD露光装置

ニコンは2021年10月26日、第6世代プレートサイズ対応のFPD露光装置「FX-6AS」を発表した。高精細化、高機能化が求められる中小型パネルの量産に寄与する。発売は同年11月上旬を予定している。

FX-6ASは、高機能モバイル機器に使用される高精細有機ELパネルや液晶パネルの製造に適した露光装置。新たに開発した投影レンズを複数用いて構成したマルチレンズシステムにより、広い領域を効率良く露光する。

　回路パターンの露光において、バイナリーマスクの使用時は1.2μm（L/S：Line and Space）、位相シフトマスクの使用時は1.1μm（L/S）の高解像度を達成。光源波長は従来モデル同様、i線のため、既存の露光工程周辺の製造プロセスを変更せずに使用できる。

　投影レンズが持つ収差を最小化し、稼働時の振動や温度などによる影響を抑制する新しいボディーを採用したことで、アライメントマークの計測精度が高まった。結果、±0.23μmと高精度なアライメントを可能にしている。

　さらに、ステージの改良や照度アップにより、高い解像度はそのままに露光時間を短縮してタクトタイムを改善した。バイナリーマスク使用時は1時間あたりの生産力が85プレートと高スループットを誇る。プレートサイズは1500×1850mmに対応する。

https://monoist.atmarkit.co.jp/mn/articles/2111/12/news030.html

当然、サムスンは戦犯企業であるニコンの製品なんて買わないよな？

半導体製造技術を持っているのは、半導体製造メーカーではなく、半導体製造装置メーカー、素材メーカーであると良く分かるね。ｗ

>>1
FPD露光装置「FX-6AS」

「韓国の露光機は全部ASMLニダ！」
って言ってみる？
ねえ韓国人よw

>>2
サムソンは買う必要ないでしょ。
サムソンに納品されているパネルに印刷工程をしている会社が使う機械。

　
　
　
　
また日本が儲かるのかｗ
　
　
　
　

キヤノン、露光装置の生産倍増　27年、AI半導体需要拡大で

　キヤノンは21日、半導体の製造に使われる「露光装置」の生産を、2027年に前年比で最大2倍に増やす計画を明らかにした。

　人工知能（AI）の普及に伴って半導体の需要が急拡大する中、国内外の半導体メーカーの増産投資に対応し、製造装置の生産能力を強化する。

　露光装置は半導体の材料となるウエハー（基板）に光を照射し、回路を焼き付ける装置。先端半導体用の極端紫外線（EUV）露光装置はオランダのASMLが独占するものの、キヤノンはメモリーやパワー半導体の製造工程で多く使用されるi線露光装置でトップシェアを持つ。

　増産には、25年に完成した宇都宮市の新工場などを活用。26年の生産台数は非公表だが、販売台数は227台の見込み。27年には1．5～2倍増産することで、300台超の規模まで増える見通しだ。

　産業機器を担当する武石洋明専務は取材に対し、「台湾や韓国、中国だけでなく、世界中の半導体メーカーで投資計画が動いている。28年までは継続する可能性がある」と述べ、半導体メーカーの投資拡大で製造装置の需要も伸びるとの見通しを示した。