LGディスプレーはテストに成功後、韓国製の原料で製造したフッ化水素を生産プロセスに最近使用し始めたと、韓国紙の毎日経済新聞が伝えた。
LGディスプレーはここ2カ月にわたり、日本製フッ化水素の代替となり得る製品をテストしてきた。従来は日本から原料を輸入した韓国の提携先が再処理したフッ化水素を使っていた。
サムスン・ディスプレーも代替品の試験を行っている。半導体製造に使われるフッ化水素にはディスプレー向けよりも高い純度が必要となる。
https://www.bloomberg.co.jp/news/articles/2019-09-02/PX6HBK6TTDS101
ディスプレイ用だけど。発表は聞き飽きた。
Samsungにとっては、ディスプレイ向けだけでなく半導体向けのフッ化水素も必要です。
半導体向けはディスプレイ向けよりも更に高純度の素材が求められています。
>半導体向けはディスプレイ向けよりも更に高純度の素材が求められています。韓国人って必要以上のパフォーマンス好きだよね(笑)
すごいなぁ がんばれ!文在寅!
この昨今の日韓の原因は、日本にここまで言わしたムンに責任がある。
良いニュースじゃん。
これで、日本は韓国にフッ化水素を売らずに済み、日本が売ったフッ化水素が、核開発に使われる心配も無くなるね。皮肉ではなく応援してる
さっさと自立して日本とは一切関わらないでくれ当たり前だろう。
最近判明しただけでも朝鮮では、秀吉の頃には、既に飛行機を実用化していたし( https://kaikai.ch/board/81440/ )、1600年代発行の「東医宝鑑」では、既にマラリアの特効薬を開発していた( https://kaikai.ch/board/81136/)。
高純度フッ化水素くらい、李朝時代にとっくに作っていた。
あらゆるものの起源としては先行していたのだが、韓国は本気出してないだけ。日韓経済戦争の泥沼化、短期間でフッ化水素は代替できない
https://eetimes.jp/ee/articles/1908/19/news014_2.html
短期的なフッ化水素の代替は困難
半導体やディスプレイの生産にとって致命傷となるフッ化水素については、中国、台湾、ロシア、さらには韓国メーカーによる代替が検討されている。あちこちの記事を拾い読みしてみると、「高純度フッ化水素の代替は難しいかもしれないが、それほど純度が必要ないフッ化水素は簡単に他国製に切り替えることができる」というような楽観的な見方が多い。
しかし、筆者の意見は違う。高純度で有る無しに関わらず、フッ化水素の代替には、ベストケースで1年、常識的に考えて2~3年はかかると思われる。代替にこれほど時間がかかるのは、フッ化水素の”レシピ“の問題と、そのボリュームの問題があるからである。以下で、それぞれの問題について説明しよう。
そもそも洗浄とは何か
フッ化水素は、主として半導体の洗浄に使われる液体材料であるが、そもそも、洗浄とは何だろうか? 小川洋輝・堀池靖浩著『はじめての半導体洗浄技術』(工業調査会、2002年3月10日出版)によれば、「表面に物理的・化学的ダメージを与えることなく低コストで、(1)パーテイクル、(2)アルカリ金属や重金属、(3)有機物、(4)Si自然酸化膜を除去すること」と定義されている。
半導体の製造工程は500~1000ステップほどあるが、その30~40%が洗浄工程である。また、10%程度がフッ化水素を使う洗浄やウエットエッチング工程である。
洗浄装置のシーケンスと洗浄液
洗浄を行う製造装置としては、1~2ロット(25~50枚)を一度に薬液漕に浸すバッチ式(別名ウエットステーション)と、ウエハを1枚ずつ洗浄する枚葉式(別名スプレー式)の2種類がある。メモリでは、主としてバッチ式洗浄装置が使われている。そして、バッチ式洗浄では、そのシーケンスも洗浄液も、半導体メーカーごとに異なる。https://eetimes.jp/ee/articles/1908/19/news014_3.html
フッ化水素には”レシピ“がある
半導体のプロセスフローが1000工程あるとしたら、恐らく100工程ほどがフッ化水素を使う洗浄工程である。そして、そのフッ化水素にも、さまざまな種類がある。
前節を見ても、東北大学の大見グループが、自然酸化膜を除去するためにフッ化水素とH2O2の混合液を使っている。また、同じく自然酸化膜を除去するためにimecでは、DHFとDHClの混合液を用いている。DHFでは、フッ化水素の希釈率が重要となる。
その他に、Si表面の金属を除去するために、フッ化水素とHClの混合溶液が使われる。さらに、フッ化水素とフッ化アンモニウムを混合させたBuffered HF(BHF)も、自然酸化膜除去やCMP後の洗浄に使われる。
加えて、フッ化水素で洗浄すると、Si表面上の酸化物が除去され、表面が水素で終端されて疎水性となるため、コンタクトホールの孔底に洗浄液が侵入しにくくなる。そこで、表面を親水性にするために、フッ化水素に界面活性剤を添加した洗浄液を使うケースが多い。
つまり、一口にフッ化水素といっても、希釈されていたり(DHF)、HClやH2O2と混合されていたり、界面活性剤が添加されていたりする。結局、除去したいものは何か、洗浄したい膜は何か、その構造はどうなっているか、などによってフッ化水素の成分が異なる。要するに、洗浄工程ごとにフッ化水素の”レシピ“が存在する。そして、その完全なレシピを、半導体メーカーは知らない。
特に、フッ化水素に、どんな界面活性剤がどのような濃度入っているかは、材料メーカーが情報を出さない。従って、Samsungなどの半導体メーカーは、パフォーマンスは分かっているが、その中身はブラックボックスのフッ化水素を使用していることになる。そのような複数種類の“レシピ”があるフッ化水素を、材料メーカーが製造し、200リットルのドラム缶やタンクローリーなどで、半導体工場に輸送している。日本製のフッ化水素を代替するには
日本製のフッ化水素の調達が困難になり、中国、台湾、ロシアなど他国製で代替する場合、何をしなくてはならないか?
例えば、DRAMのプロセスフローが1000工程あり、そのうち100工程にフッ化水素を使っていたと仮定する。100工程全ての”レシピ”が異なるとは思えないが、10種類くらいの“レシピ”があるかもしれない。DRAMを量産するためには、その全ての”レシピ“を確定しなくてはならない。
それは簡単なビーカー実験でできるものではなく、DRAMの歩留まりで検証し、最適化する必要がある。1ロット25枚のシリコンウエハーに半導体を作り込むのに2~3カ月。特急ロットでも数週間はかかる。これを何回も繰り返し、全ての工程に対して最適化された”レシピ“を開発しなければ、DRAMは量産できない。
冒頭で、フッ化水素の代替には、ベストケースで1年、常識的に考えれば2~3年かかると書いたが、その意味がお分かりいただけたのではないだろうか?>>9
そんなことがあったのか...
何と気の毒なことだ......ディスプレイ用だけど
>しかし、両社の関係者は、「取引先と関連した事案については、公式確認できない」と述べた。
https://www.msn.com/ko-kr/news/national/%EB%B0%98%C2%B7%EB%94%94-%EC%97%85%EA%B3%84-%EC%86%8C%EC%9E%AC-%EA%B5%AD%EC%82%B0%ED%99%94-%EC%9E%87%EB%8B%A8-%EC%84%B1%EA%B3%BC%E2%80%A6lgd%EB%8A%94-%EC%83%9D%EC%82%B0%EB%9D%BC%EC%9D%B8-%ED%88%AC%EC%9E%85/ar-AAGFz4O
>LGディスプレーは素材パートナーであるブラシブレインを介してフッ化水素の国産化に成功したと伝えられた。
またブラシブレインというのがwおめでとうごじゃいます(^^)
成功したんなら、なんでまだ足りないって騒いでんのーw
>>18
それソウルブレインだよ
https://kaikai.ch/board/81996/
ここにも書いた
DRAM、NANDについても書いたが必要ならもっと書く韓国人は超優秀だからフッ化水素なんて簡単に作れるんだろ?(´・ω・`)蛇口ひねったら各家庭で湯水の如く使えるくらい
フッ化水素風呂にでもゆっくり浸かって、歯もフッ化水素で洗って、米もフッ化水素で炊けばいいさwつまり、
「密輸分はこれからは韓国内で生産します」
と言っているのですかね?
LGディスプレーが日本製フッ化水素の代替実現-毎日経済
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