SK하이닉스, 엔비디아에 'HBM4' 조기 공급. 6월 샘플, 10월 양산할 듯.

1名無し2025/01/16(Thu) 04:10:55ID:Y0MzEyMTI(1/1)NG報告
엔비디아 '루빈' GPU 출시 속도에 맞춰 대응 가속화.

SK하이닉스가 이르면 올해 6월 엔비디아에 HBM4(6세대 고대역폭메모리) 샘플을 출하할 계획인 것으로 파악됐다. 이르면 3분기말께부터 제품 공급이 시작될 것으로 관측된다. 당초 하반기 공급에서 일정을 다소 앞당긴 것으로, SK하이닉스는 차세대 HBM 시장을 선점하기 위해 양산화 준비를 서두르고 있다.

15일 업계에 따르면 SK하이닉스는 오는 6월 HBM4의 첫 커스터머 샘플(CS)을 고객사에 조기 공급하는 것을 목표로 세웠다.

HBM4는 데이터 전송 통로인 I/O(입출력 단자) 수를 이전 세대 대비 2배 많은 2048개로 집적해 성능을 극대화했다. 엔비디아의 경우 당초 2026년 차세대 고성능 GPU '루빈(Rubin)' 시리즈에 12단 적층 HBM4를 탑재하기로 했었으나, 계획을 앞당겨 올 하반기 출시를 목표로 하고 있다.

이에 따라 SK하이닉스도 HBM4 개발에 속도를 내고 있다. 회사는 엔비디아향 HBM4 공급을 위한 전담 개발팀을 꾸리고, 지난해 4분기 HBM4 테이프아웃을 완료했다. 테이프아웃이란 연구소 수준에서 진행되던 반도체 설계를 완료하고, 도면을 제조 공정에 보내는 과정이다.

이후 SK하이닉스는 HBM4의 샘플을 고객사에 보내는 일정도 당초 올 하반기에서 6월로 앞당겼다. 해당 샘플은 고객사에 제품을 양산 공급하기 전 인증을 거치기 위한 커스터머 샘플로 알려졌다. HBM4 양산화를 위한 마지막 단계에 돌입한다는 점에서 의미가 있다.

HBM4는 주요 메모리 기업들의 차세대 고부가 메모리 시장의 격전지가 될 전망이다. 마이크론 역시 최근 진행한 회계연도 2025년 1분기 실적발표에서 "오는 2026년 HBM4의 본격적인 양산 확대를 진행할 계획"이라고 밝힌 바 있다.

https://n.news.naver.com/article/092/0002359974?sid=105
>>2 >>6 >>9
211○○江南トバクが言う　日本人は口を開けば嘘をつくwww2025/01/17(Fri) 23:00:32ID:Y1NTM3MA=(1/1)NG報告
>>1
TSMCから技術がないと
名指しされたSAMSUNGwww
3名無し2025/01/17(Fri) 23:02:54ID:UzNDM3OTI(1/3)NG報告
また日本が負けましたね
負け慣れして日常となってますね
>>4
4名無し2025/01/17(Fri) 23:06:03ID:YwMjQ2ODI(1/3)NG報告
>>3
自殺率は韓国の圧勝だしねw
5名無し2025/01/17(Fri) 23:07:27ID:UzNDM3OTI(2/3)NG報告
また日本が負けましたね
負け慣れして日常となってますね
>>7
6名無し2025/01/17(Fri) 23:09:33ID:YwMjQ2ODI(2/3)NG報告
>>1
その利益で日本製の設備を新規購入w

韓国SKハイニックス、キヤノン製の半導体露光装置を導入…「3D NANDを高度化」
2023/05/05 10:58
https://www.chosunonline.com/m/svc/article.html?contid=2023050580017
SKハイニックスは今年、日本のキヤノンからナノインプリント露光装置を導入し、テストを進めている。2025年ごろに同装置を使い、3D（3次元）NAND型フラッシュメモリーの量産を開始することを目標に研究開発を進めており、これまでのテスト結果が順調であるため、量産用設備も追加発注される見通しだ。
　半導体業界によると、SKハイニックスは今年、キヤノンからナノインプリント露光装置のテスト装備を購入し、3D NAND型フラッシュメモリーの生産工程に適用するためのテストを進めている。業界で最先端製造プロセスに使用されている極端紫外線（EUV）露光装置の次世代設備とされ、これまでは研究開発レベルでの採用にとどまっていた。
　次世代の露光技術として脚光を浴びてきたナノインプリント露光装置は、ナノパターンが刻まれたスタンプを使い、まるで印鑑を押すようにシリコンウエハー上にナノパターンを転写するのが特徴だ。
液体である紫外線感光液をシリコン基板上にコーティングした後、透明なスタンプを接触させ圧力を加えるとスタンプとの間にパターンが形成される。その後、光を投射してパターンを固体化する。安価な紫外線を光源として使用し、レンズを使わないため、従来のフッ化アルゴン（ArF）液浸露光装置や最高2000億ウォン（200億円）もするEUV露光設備を使用するよりも経済的とされている。

　既存のArF設備で形成できる回路線幅の物理的な限界値は38ナノメートルにとどまる。主要半導体メーカーは、ArF液浸露光装置で回路パターンを2回または3回かけて形成するダブルパターニング技術を導入し、20ナノメートル以下にまで微細化を進めてきた。しかし、マルチパターニング工程を導入すると、生産時間が長くなり、蒸着やエッチングなどに使う設備の導入も増やさなければならない。それがスペースを取るため、生産ライン全体の生産量が減るデメリットが大きい。
7名無し2025/01/17(Fri) 23:10:12ID:YwMjQ2ODI(3/3)NG報告
>>5
自殺率は韓国のぶっちぎりw
>>8
8名無し2025/01/17(Fri) 23:12:16ID:UzNDM3OTI(3/3)NG報告
>>7
せやな

不本意未婚おじさんは韓国人みたいやね、ダサ過ぎ
>>12
9名無し2025/01/18(Sat) 06:39:18ID:gzMjY0NTg(1/1)NG報告
>>1
망상 대국 일본은 매일 반도체를 양산하는 꿈을 꾸고 있습니다
>>11
10名無し2025/01/18(Sat) 06:42:02ID:A0MzA0NzI(1/1)NG報告
NVIDIAのテストに受からないSamsungは生きてますか？ww
1111○○江南トバクが言う　日本人は口を開けば嘘をつくwww2025/01/18(Sat) 07:17:01ID:IwODY4OA=(1/2)NG報告
>>9
　
メモリー半導体しかない

中国が大量生産するメモリー半導体だけ

SAMSUNGが低品質（低品質しかない）HBMを中国へ販売しHBM情報を流している
1211○○江南トバクが言う　日本人は口を開けば嘘をつくwww2025/01/18(Sat) 07:18:41ID:IwODY4OA=(2/2)NG報告
>>8
せやな

架空の嫁さんを作るなんて

悲しすぎる人生

8年以上もカイカイに張り付くなんて

大爆笑www