한국 투자 전문가 : 일본의 완전한 패배

1. 감광액 (포토 리지스트)
현재 우리나라 삼성전자 및 하이닉스 의 디램 반도체에서 사용되는 감광액은, ARF 이머진 방식 노광장비 용이고, 3D 낸드플래시 를 생산할때 사용되는 감광액은 KRF 이머진 노광장비용 입니다.
KRF 방식은, 빛의 파장이 248 나노미터 로 오래된 기술입니다. 그리고 ARF 방식은 빛의 파장이 193 나노미터로 좀더 진보된 기술입니다.
현재 삼성전자 및 하이닉스에서 주요한 수익이 발생하는 디램과 낸드플래시 모두, 193 나노미터 이상의 빛의 파장에서 사용하는, 포토레지스트를 사용하기 때문에 규제 품목에 해당되지 않습니다.
대책도 있습니다. 규제대상에 포함되는 EUV 용 포토레지스트 의 경우 일본 TOK 공장이 송도에 있기 때문에, 해당 물량은 일본의 수출규제 대상에 포함이 안됩니다. 또한 미국 다우로 일부 대체가능합니다.

2. 불산(에칭가스)
반도체 업계 조사자료에 의하면 불산 에칭가스는 의 경우, 과거 이미 국내 기업이 국산화가 가능하여 국산화를 진행 하고자 하였으나, 국내 환경 규제가 심각하여 허가를 받지 못한것으로 조사 됩니다. 또한 중국산 불산에 대한 평가 및 검증이 끝난 상태 입니다. 삼성전자 및 하이닉스에서도 신규투입에 대한 평가 및 검증의 과정을 거치는것 보다 일본에서 수입하는 것이 경제적이라는 판단을 내렸기 때문에 일본에서 제품을 수입하고 있었습니다.

3. 폴리이미드
규제대상에 포함된 불소함유량 10%의 폴리이미드도 마찬가지입니다. 원재료인 플로오린 폴리이미드는 듀폰사에서 생산합니다. 코오롱 인더스트리 ,SK이노베이션,SKC 등이 플루오린 폴리이미드를 수입하여 CPI를 생산하고 있습니다.

4. 지금 메모리는 공급과잉
추가로 현재 디램과 낸드 플래시는 재고가 많은 상황입니다. 생산량 우리나라 삼성전자 및 하이닉스 입장에서는 물량공급이 부족한 상황이 아니기 때문에 시간적 여유가 있습니다.