「日本報復」4年ぶりに… 「純度99.999％」韓国がまたやった

EUV用フォトレジスト、フッ化水素、フッ化ポリイミド。 日本が2019年韓国輸出規制カードを取り出した半導体・ディスプレイ核心素材3種だ。 このうち、フォトレジストはフッ化水素、フッ化ポリイミドとは異なり、国産化が多かった。 フォトレジストで大きな比重を占める溶剤（溶媒）を超高純度で生産するのが難しかったからだ。

コスダック市場上場中堅企業ケムトロニクスがこの難題を解決して注目される。 キム・ウンス・ケントロニクス代表は「EUV露光工程で核心材料であるフォトレジストを構成するプロピレングリコールメチルエーテル酢酸(PGMEA)を純度99.999%(5N)で試生産することに成功した」とし「2024年上半期から本格量産するための 顧客会社の品質承認作業が進行中」と7日明らかにした。

同社はPGMEA開発を終え、大量生産のために昨年240億ウォンをかけて年1万トンの生産能力を確保した。 さらに今年170億ウォンを投資して生産能力を2万5000t規模に拡大する計画だ。

PGMEAは半導体製造に使用される代表的な溶媒です。 半導体用シンナーで製造され、露光工程で感光反応が起こらなかった部分に付着した感光物質を洗い流す役割をする。 ケムトロニクスはこれまで日本と台湾などでPGMEAを買って純度を高める精製作業をした後、企業に供給した。

2019年、日本の半導体素材輸出規制が国産化に火をつけた。 独自の合成・精製ノウハウを前面に出して4年余りで5N級量産を目の前に置いた。 金代表は「金属性残留物による不良を大きく減らすことができる」と述べた。

2022年9262億ウォン規模だったPGMEA市場は、2024年に1兆172億ウォン台に成長すると予想される。

https://www.hankyung.com/article/2023110794761