大口径GaN基板を量産化へ 三菱ケミカルがEVの新たな可能性を切り開く

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    • 1名無し2021/06/16(Wed) 17:02:19ID:Y0MzYxMjg(1/2)NG報告

      https://newswitch.jp/p/27632
      抜粋
      三菱ケミカルなどが大口径の窒化ガリウム(GaN)単結晶基板の量産化にめどを付けたことで、走行中に電気自動車(EV)を非接触充電する次世代EV技術が実現に近づいてきた。同基板はより大電流動作が可能な高耐圧パワー半導体を実現でき、電子機器などを効率化、小型化できるからだ。新素材がEVの新たな可能性を切り開く。
      現在パワー半導体はシリコンや炭化ケイ素(SiC)基板上にGaN結晶を成長させたエピタキシャルウエハーが主流。大口径GaN基板が量産化されると、GaN基板上にGaN結晶を成長させ、より結晶欠陥の少ない基板を用いて高性能なパワー半導体を生産できるようになる。
      このGaNオンGaN基板は、次世代EV技術に対して大きなインパクトがある。三菱ケミカルのガリウムナイトライドセクションリーダーの藤戸健史氏は、「走行中のEV非接触充電システムや、ホイールに駆動用モーターを格納したインホイールモーターに、GaNオンGaNが必要になる」と指摘する。
      同社は日本製鋼所と共同で北海道室蘭市に2、4、6インチの基板を生産できる量産実証設備を設置し、2022年度初頭から市場へ供給を始める。同設備で採用した「液相成長法」は、従来の気相成長に比べ欠陥密度を100分の1から1000分の1に抑えられる。同技術の実現には、製造条件の大きなブレークスルーが必要で、約10年を要した。
      液相成長法は、高温高圧下で超臨界状態にした液体アンモニアにGaN多結晶を溶かし、そこから単結晶を再析出させる。従来はGaNを溶かすため2000気圧に高めていたが、大型装置はこの気圧に耐えられない。そこで三菱ケミカルはアンモニアに添加する鉱化剤を工夫し、「1000気圧下で大量のGaNが溶けるようにした」(藤戸氏)。
      既存の気相成長によるGaN基板は00年代に開発され、ブルーレイディスクの光ピックアップ技術の実現に寄与したが、大きさは2インチ止まりで用途も限定的。液相法による大口径化で次世代EV技術やモーター小型化、高出力・高輝度光源、情報通信分野のデバイス進化に貢献することが期待される。

      なんかよく分からんが、凄そうだw

    • 2名無し2021/06/16(Wed) 23:08:43ID:AyNDM0MjQ(1/1)NG報告

      >>1 こういう事に役立つ
      走行中充電による電気自動車の航続距離無限化技術
      https://www.jsme.or.jp/tld/home/topics/no050/topics4.html

      簡単に言うと、1/1スロットカー...

    • 3名無し2021/06/17(Thu) 03:34:01ID:MzMzE4MzY(2/2)NG報告

      >>2
      インフラにとんでもなくお金がかかりそうだな。

    • 4名無し2021/06/17(Thu) 15:47:45ID:I2MTk2NjE(1/1)NG報告

      これはパワー半導体の話題なので韓国人は来ないと思います(笑)パワー半導体の世界シェアでは韓国は微々たるモノです(笑)韓国人に電力制御は苦手分野です(笑)その証拠にすぐに火を吹くでしょ?(笑)

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